삼성전자, HBM3E '샤인볼트' 공개…'영화 40편을 1초에'
'삼성 메모리 테크 데이 2023' 개최 hbm 5세대인 HBM3E 샘플 공급 시작
[토토 사이트 커뮤니티 김언한 기자] 삼성전자가 인공지능(AI) 기술 혁신을 이끌 초고성능 HBM3E D램 '샤인볼트와 PC·노트북 D램 시장의 판도를 바꿀 'LPDDR5X CAMM2' 등을 공개했다.
삼성전자는 20일(현지시간) 미국 실리콘밸리에 위치한 맥에너리 컨벤션 센터에서 '삼성 메모리 테크 데이 2023'을 개최했다.
이날 공개한 HBM3E는 삼성전자의 5세대 HBM 제품이다. 샤인볼트는 데이터 입출력 핀 1개당 최대 9.8Gbps의 고성능을 제공한다. 이는 초당 최대 1.2TB 이상의 데이터를 처리할 수 있는 속도이다. 1.2TB는 30GB 용량의 UHD 영화 40편을 1초 만에 처리할 수 있는 속도다.
삼성전자는 NCF(Non-conductive Film) 기술 최적화를 통해 칩 사이를 빈틈없이 채워 고단 적층을 구현했다. 열전도를 극대화해 열 특성 또한 개선했다. NCF(비전도성 접착 필름)은 적층된 칩 사이를 절연시키고 충격으로부터 연결 부위를 보호하기 위해 사용하는 고분자 물질이다.
삼성전자는 현재 HBM3 8단, 12단 제품을 양산 중이다. 차세대 제품인 HBM3E도 고객들에게 샘플을 전달하고 있다.
삼성전자는 “차세대 HBM D램과 최첨단 패키지 기술, 파운드리까지 결합된 맞춤형 턴키 서비스도 제공할 예정”이라고 밝혔다.
이외에도 △현존 최대 용량 '32Gb DDR5(Double Data Rate) D램' △업계 최초 '32Gbps GDDR7(Graphics Double Data Rate) D램' △저장 용량을 획기적으로 향상시켜 최소한의 서버로 방대한 데이터를 처리할 수 있는 'PBSSD(Petabyte Storage)' 등을 소개했다.
삼성전자는 사용자 기기단에서 고성능·고용량·저전력·작은 폼팩터 등을 지원하는 솔루션도 공개했다. 최근 AI 기술은 폭증하는 데이터를 원활하게 처리하기 위해 클라우드와 에지 디바이스 간에 워크로드를 분산, 조정하는 하이브리드 형태로 발전하고 있다.
특히 업계 최초로 개발한 7.5Gbps LPDDR5X CAMM2(Compression Attached Memory Module)은 차세대 PC·노트북 D램 시장의 판도를 바꿀 제품으로 참석자들의 이목을 집중시켰다.
이외에도 △9.6Gbps LPDDR5X D램 △온디바이스 AI(On-Device AI)에 특화된 LLW(Low Latency Wide I/O) D램 △차세대 UFS 제품 △PC용 고용량 QLC SSD BM9C1 등을 공개했다.
아울러 삼성전자는 2025년 전장 메모리 시장 1위 달성을 위한 차량용 핵심 솔루션을 공개했다.
삼성전자는 스토리지 가상화를 통해 하나의 SSD를 분할해 여러 개의 시스템온칩(SoC)을 사용할 수 있는 'Detachable AutoSSD(탈부착 가능한 차량용 SSD)'를 공개했다.
이 제품은 최대 6500MB/s의 연속 읽기 속도를 지원하며, 4TB 용량을 제공한다. 또한 탈부착이 가능한 폼팩터로 구현돼 손쉽게 SSD를 교체할 수 있어 성능 업그레이드 등이 용이한 제품이다.
행사에서 삼성전자 메모리사업부 이정배 사장은 "초거대 AI 시대는 기술 혁신과 성장의 기회가 교차하는 지점으로, 업계에 더 큰 도약과 함께 도전의 시간이 될 것"이라고 밝혔다.
'메모리 역할의 재정의(Memory Reimagined)'라는 주제로 열린 이번 행사는 글로벌 IT 고객과 파트너, 애널리스트 등 600여 명이 참석했다. 미주총괄 짐 엘리엇(Jim Elliott) 부사장, 업계 주요 인사 등이 반도체 시장의 트렌드와 주요 제품을 소개했다.
지난 5월 12나노급 D램 양산을 시작한 삼성전자는 차세대 11나노급 D램도 업계 최대 수준의 집적도를 목표로 개발 중이라는 내용을 공개했다.
삼성전자는 10나노 이하 D램에서 3D 신구조 도입을 준비하고 있다. 이를 통해 단일 칩에서 100Gb(기가비트) 이상으로 용량을 확장할 계획이다.
삼성전자는 9세대 V낸드에서 더블 스택 구조로 구현할 수 있는 최고 단수를 개발 중이며, 내년 초 양산을 위한 동작 칩을 성공적으로 확보했다고 밝혔다.
또 삼성전자는 셀의 평면적과 높이를 감소시켜 체적을 줄이고, 단수를 높이는 핵심 기술인 채널 홀 에칭으로 1000단 V낸드 시대를 준비해 나가겠다고 강조했다.