EUV 장비 만드는 핵심 기술 보유한 기업
칼 람프레히트 CEO 등과 미팅

26일(현지 시간) 독일 오버코헨 자이스 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장이 칼 람프레히트 ZEISS그룹 CEO(맨 오른쪽), 안드레아스 페허 ZEISS SMT CEO(오른쪽에서 두번째)와 대화하는 모습. 사진=삼성전자 제공
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 자이스 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장이 칼 람프레히트 ZEISS그룹 CEO(맨 오른쪽), 안드레아스 페허 ZEISS SMT CEO(오른쪽에서 두번째)와 대화하는 모습. 사진=삼성전자 제공

[데일리한국 김언한 기자] 이재용 삼성전자 회장이 독일 자이스(ZEISS) 본사에서 칼 람프레히트 최고경영자(CEO)와 회동했다.

28일 재계에 따르면 이 회장은 26일(현지시간) 독일 오버코헨에 위치한 자이스 본사를 찾아 경영진과 양사 협력 강화 방안을 논의했다.

자이스는 첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 기술 관련 핵심 특허를 2000개 이상 보유하고 있는 글로벌 광학 기업이다. ASML의 EUV 장비에 탑재되는 광학 시스템을 독점 공급하는 것으로 유명하다.

특히 EUV 장비 1대에 들어가는 자이스 부품은 3만개 이상이어서 이 회사의 기술력 없이는 EUV 장비를 만드는 것이 불가능하다.

이 회장은 람프레히트 CEO 등 자이스 경영진과 반도체 핵심 기술 트렌드 및 양사의 중장기기술 로드맵에 대해 논의했다. 또 자이스의 공장을 방문해 최신 반도체 부품 및 장비가 생산되는 모습을 직접 살펴봤다.

이번 방문에는 송재혁 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문 최고기술책임자(CTO), 남석우 삼성전자 DS부문 제조&기술담당 사장 등 반도체 생산기술을 총괄하는 경영진이 동행했다.

삼성전자와 자이스는 파운드리와 메모리 사업 경쟁력을 강화하기 위해 향후 EUV 기술 및 첨단 반도체 장비 관련 분야에서의 협력을 더욱 확대한다.

26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장(왼쪽에서 두번째)이 최신 반도체 장비를 살펴본 뒤 칼 람프레히트 ZEISS그룹 CEO(왼쪽에서 세 번째), 안드레아스 페허 ZEISS SMT CEO(왼쪽에서 첫번째)와 함께 기념사진을 촬영하는 모습. 사진=삼성전자 제공
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장(왼쪽에서 두번째)이 최신 반도체 장비를 살펴본 뒤 칼 람프레히트 ZEISS그룹 CEO(왼쪽에서 세 번째), 안드레아스 페허 ZEISS SMT CEO(왼쪽에서 첫번째)와 함께 기념사진을 촬영하는 모습. 사진=삼성전자 제공

삼성전자는 EUV 기술력을 바탕으로 파운드리 시장에서 3나노 이하 초미세공정 시장을 주도하고, 연내에 EUV 공정을 적용해 6세대 10나노급 D램을 양산할 계획이다.

한편 자이스는 2026년까지 480억원을 투자해 한국에 연구개발(R&D) 센터를 구축할 방침으로, 자이스가 한국 R&D 거점을 마련함에 따라 양사의 전략적 협력은 한층 강화될 것이란 관측이 나온다.

이 회장은 최근 글로벌 네트워크를 활용해 마크 저커버그 메타 CEO, 피터 베닝크 ASML CEO, 젠슨 황 엔비디아 CEO 등과 만나 반도체 사업에서 삼성전자와의 협력을 이끌고 있다는 평가가 나온다.

해외뿐만 아니라 국내 협력사들과도 상호 협력 증진 방안에 대해 논의하는 자리가 많아졌다.

삼성전자는 2021년 1월, 평택 반도체 생산라인 설비 반입식에 원익IPS, 솔브레인, 피에스케이, 동진쎄미켐 등 협력사 대표들을 초대하기도 했다. 이자리에서 국내 반도체 소재·부품·장비 생태계 육성 및 상호 협력 증진 방안을 논의했다.

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